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    CVD涂層的發展方向

    (1)發展重荷和銑削用的涂層合金

        目前涂層刀片在銑削條件下使用效果不太好,其主要原因是抗機械震動和抗熱振性較差。如能克服這一缺點,涂層刀片將獲得更廣泛應用。

    (2)發展低溫CVD和中溫CVD法

        一般CVD法多在1000℃左右的高溫下進行,易生成η相和破壞基體韌性。而低溫CVD一般在650℃以下進行,可以避免高溫引起的涂層張應力和涂層與基體界面上相的形成。

        中溫CVD一般在700℃~900℃下進行,以乙***為含碳氣體原料,沉積出Ti(C,H)涂層。

        由于此法沉積溫度較低,涂層生長快,沉積時間短,所以相大大減少,刀片韌性好,抗沖擊性好,耐磨性也不比高溫CVD涂層差。

    (3)發展組合涂層和固溶體涂層

         早期只進行單層TiC或TiN涂層,但很快發展到TiC/TiN積層涂層,甚至三層涂層,比如由TiC(或Ti(C,N)及A12O3組成的復合涂層。由于組合涂層能分別以不同的涂層材料來滿足抗磨損性能,與基體結合性能等不同的要求,故能獲得比單一涂層好得多的性能。

    (4),發展氧化物涂層

          氧化物涂層常用在陶瓷工具經常使用但有容易崩刃和破損的場合,其工具壽命可比陶瓷長3—4倍。


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